HFE 7200 Cas 163702 06 5 do czyszczenia półprzewodników Tel:+086-592-5803997

Jako fluorowany rozpuszczalnik nowej-generacji, HFE 7200 wyznacza standardy w zakresie precyzyjnego czyszczenia w środowiskach, w których absolutna niezawodność nie podlega-negocjacjom. Zaprojektowany z myślą o ultra-wysokiej czystości, wyjątkowej kompatybilności materiałowej i szybkim odparowaniu-bez pozostałości, radzi sobie z najbardziej wymagającymi wyzwaniami związanymi z czyszczeniem w produkcji półprzewodników, optyki, elektroniki i oprzyrządowania medycznego.

Czyszczenie półprzewodników: od usuwania-nano pozostałości trawienia na podłożach płytek po delikatne czyszczenie wrażliwych soczewek optycznych i endoskopów medycznych, HFE 7200 zapewnia stałą, powtarzalną wydajność bez naruszania integralności podłoża. Jego niepalność i niska toksyczność sprawiają, że jest to bezpieczny wybór zarówno w przypadku automatycznych systemów odtłuszczania parowego, jak i ręcznych procesów czyszczenia, a jego profil środowiskowy jest zgodny z globalnymi dyrektywami dotyczącymi zrównoważonego rozwoju.

Tam, gdzie konwencjonalne rozpuszczalniki nie są wystarczające, HFE 7200 wyróżnia się, - zapewniając, że najważniejsze komponenty spełniają najwyższe standardy czystości, funkcjonalności i trwałości.

Główne zalety HFE 7200 Tel:+086-592-5803997

Kluczowe zastosowania HFE 7200 Tel:+086-592-5803997

1. Czyszczenie na mokro sprzętu do trawienia półprzewodników; Czyszczenie elementów ciekłokrystalicznych i dysków twardych
HFE 7200 jest szeroko stosowany w zaawansowanych procesach czyszczenia na mokro w produkcji półprzewodników, szczególnie w usuwaniu-resztek po trawieniu z płytek i elementów komór. Jego wyjątkowa czystość, niskie napięcie powierzchniowe i szybkie parowanie zapewniają dokładne czyszczenie bez pozostawiania zanieczyszczeń jonowych lub cząstek stałych. W branży wyświetlaczy i przechowywania danych jest równie skuteczny do czyszczenia delikatnych paneli wyświetlaczy ciekłokrystalicznych (LCD) i elementów dysków twardych (HDD), zachowując przejrzystość optyczną i precyzję mechaniczną, jednocześnie eliminując oleje, cząstki i pozostałości organiczne.

2. Czyszczenie sprzętu laserowego i czyszczenie soczewek optycznych
Ze względu na swoje właściwości nie-korozyjne i wolne od pozostałości-, HFE 7200 idealnie nadaje się do konserwacji-wysokich systemów optycznych. Bezpiecznie usuwa kurz, odciski palców i powłoki z optyki laserowej, soczewek, lusterek i czujników, nie uszkadzając-powłok antyrefleksyjnych ani specjalistycznych. Jego szybko-schnący charakter zapobiega powstawaniu smug, zapewniając optymalną transmisję światła i dokładność systemu w krytycznych zastosowaniach, takich jak litografia, cięcie laserowe, obrazowanie medyczne i oprzyrządowanie naukowe.

3. Czyszczenie precyzyjnych elementów elektronicznych
HFE 7200 służy jako wysoce niezawodny rozpuszczalnik do odtłuszczania i usuwania topnika z wrażliwych zespołów elektronicznych, w tym płytek drukowanych (PCB), złączy, przekaźników i układów mikroelektromechanicznych (MEMS). Jego niska toksyczność i doskonała kompatybilność materiałowa pozwalają na bezpieczne stosowanie na tworzywach sztucznych, elastomerach i metalach, zapobiegając pęcznieniu, pękaniu lub degradacji elektrycznej, zapewniając jednocześnie wysoką niezawodność dielektryczną.

4. Lotnictwo i dziedziny medycyny (czyszczenie soczewek medycznych, materiały szczególnie wrażliwe)
W lotnictwie HFE 7200 stosuje się do czyszczenia awioniki, systemów nawigacji i wrażliwych materiałów kompozytowych bez wpływu na ich właściwości strukturalne i elektryczne. W produkcji i konserwacji wyrobów medycznych stosuje się go do czyszczenia soczewek endoskopów, narzędzi chirurgicznych, czujników diagnostycznych i innych biokompatybilnych komponentów, gdzie najważniejsza jest sterylność, brak-reaktywności i brak pozostałości.

5. Zastosowania kosmetyczne i kosmetyczne (makijaż/demakijaż, maseczki do twarzy)
W preparatach kosmetycznych HFE 7200 pełni rolę lotnego nośnika lub rozpuszczalnika w produktach takich jak długotrwały-makijaż, wodoodporne środki do demakijażu i maseczki w płachcie. Jego delikatne, nie-drażniące właściwości i szybkie parowanie pomagają równomiernie dostarczać składniki aktywne bez pozostawiania tłustych pozostałości, co poprawia komfort użytkowania i stabilność produktu.

6. Środki czyszczące i płuczące do odtłuszczania parowego
HFE 7200 to preferowany rozpuszczalnik w-zamkniętym obiegu systemów odtłuszczania w oparach, służący do usuwania olejów, smarów i wosków z części metalowych, ceramicznych i polimerowych. Jego niska temperatura wrzenia i wysoka stabilność pozwalają na wydajną kondensację i odzysk, minimalizując zużycie rozpuszczalnika i wpływ na środowisko, przy jednoczesnym osiągnięciu czystości na poziomie przemysłowym.-.

7. Nośnik smaru
Jako płyn nośny w specjalnych smarach i-związkach przeciwzatarciowych, HFE 7200 ułatwia równomierne nakładanie cząstek smarujących lub dodatków na złożone zespoły mechaniczne. Po nałożeniu szybko odparowuje, pozostawiając jednolitą, cienką warstwę smarującą, nie przyciągając kurzu ani nie zakłócając tolerancji.

8. Rozpuszczalnik specjalistyczny, ośrodek dyspersyjny, ośrodek reakcyjny i rozpuszczalnik ekstrakcyjny
HFE 7200 stosuje się w badaniach i rozwoju oraz w procesach chemicznych-o wysokiej wartości jako obojętne medium do dyspergowania nanomateriałów, prowadzenia kontrolowanych reakcji chemicznych lub ekstrakcji wrażliwych związków. Jego stabilność chemiczna,-niepolarność i niska reaktywność sprawiają, że nadaje się do przenoszenia zaawansowanych materiałów, farmaceutyków i wysokowartościowych chemikaliów.

9. Zamiennik CFC, HCFC, HFC i PFC
Jako przyjazna dla środowiska alternatywa dla rozpuszczalników-zubożających warstwę ozonową i o wysokim-globalnym-potencjale ocieplenia-(GWP), HFE 7200 oferuje porównywalne lub lepsze działanie przy zerowym potencjale niszczenia ozonu (ODP) i znacznie niższym GWP. Wspiera zgodność z międzynarodowymi przepisami środowiskowymi, takimi jak Protokoły Montrealskie i Kioto.

10. Płyn przenoszący ciepło
HFE 7200 jest stosowany w jedno-fazowych lub dwu-fazowych układach chłodzenia elektroniki, systemów laserowych i sprzętu laboratoryjnego. Jego stabilność termiczna, nie-palność i właściwości dielektryczne umożliwiają wydajne i bezpieczne rozpraszanie ciepła w zastosowaniach-z bezpośrednim lub pośrednim chłodzeniem, w tym w chłodzeniu zanurzeniowym w-wysokiej wydajności obliczeniowej i elektronice mocy.

Karta katalogowa hFE 7200 Tel:+086-592-5803997

Wygląd i właściwości	Bezbarwna, przezroczysta ciecz	Zapach	Bezwonny
Temperatura wrzenia przy 1 atm	156-160 stopni	Punkt zamarzania	-84,9 stopnia

gęstość cieczy (25 stopni)	1,810 g·ml^-1	Temperatura zapłonu	NIE

strata dielektryczna (10 MHz)	0.00418	oporność objętościowa	Większe lub równe 1,579×1011 Ω·mm
współczynnik załamania światła	1.308	współczynnik rozszerzalności objętościowej (20-80 stopni)	5.420×10^-3

lepkość kinematyczna (25 stopni)	3,05 mm2·s^-1	Ciepło właściwe	1.151 J·g^-1·K^-1

współczynnik przewodności cieplnej (25 stopni)	0.0656W∙m-1∙K^-1	napięcie powierzchniowe	17,51 mN·m^-1

wytrzymałość dielektryczna (2,5 mm)	>50,4 kV	stała dielektryczna (1 MHz)	4.75

ODP	0	GWP	180